產品名稱：真空鍍膜鈦鋯靶、鈦鋯合金靶材材 質：Ti、Zr晶粒度：<100um產品規(guī)格：根據(jù)用戶需要進行定制，來樣加工，來圖加工。工藝：熱軋，冷軋，堿洗，剪切而成。應用領域：航天航空、原子能反應...

產品名稱：TA1鈦靶、TA2鈦靶、鈦靶材材 質：Ti純 度：99.9%-99.99%牌號：TA1、TA2晶 粒 度：<100um規(guī)格：可以按照用戶需要定制應用領域：適用電子、五金、鐘表、眼鏡、首飾、刀具、模具、...

產品名稱高純度靶材尺寸1.圓形靶：?30--2000mm，厚度3.0mm--300mm； 2.板托：長度：200-500mm寬度：100-230mm厚度：3--40mm 3.靶材：直徑：30-200mm厚度：5-20mm長度：500-2000mm 4.可...

1、鈦鋁靶特點產品具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好的特點。2、鈦鋁靶應用切削刀具，硬質合金鉆頭，硬質合金陶瓷刀具，硬質合金模具，超硬材料的粉末冶金件或是金屬復合陶瓷，耐高溫合...

1、前 言 隨著我國經濟持續(xù)快速增長，人們的生活水平也得到了日益提高，居民消費結構也發(fā)生了顯著的變化，由過去的基本需求吃、穿、用，升級為現(xiàn)在較高層次的住、行、休閑等，尤其是...

名稱：鉻靶材、鉻多弧靶、鉻平面靶、鉻旋轉靶、鉻塊牌號：Gr用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等。...

磁控濺射鈦靶材主要應用于電子及信息產業(yè)，如集成電路、平面顯示屏和家裝汽車行業(yè)裝飾鍍膜領域，如玻璃裝飾鍍膜和輪轂裝飾鍍膜等。為了更能接近磁控濺射靶材的使用者，以便提供更...

制造的金屬鍍膜工藝中，日本的日礦材料公司生產高純鈦濺射靶、銅、鉭、鈷、鎢、鎳等高純金屬以及合金靶、鈦硅化物靶等，供給全世界的半導體廠家。高純?yōu)R射鈦靶材主要是用做鋁配...

濺射鈦靶材主要應用于電子及信息產業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應用于玻璃鍍膜領域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用...

新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導電的...

眾所周知，鈦靶材的技術發(fā)展趨勢與靶材的制備發(fā)展趨勢息息相關，隨著應用產業(yè)在薄膜產品或元件上的技術改進，靶材技術也應隨之變化。下面就跟著巨偉鈦業(yè)起來了解下靶材的制備方法...

使用大量鈦靶材的行業(yè)主要包括半導體集成電路，平板顯示器，太陽能電池，磁記錄介質，光學器件等（這些材料按用途分類）。 其中，高純度濺射靶材主要用于材料的純度。要求更高穩(wěn)定性的領...

現(xiàn)如今生活離不開電子產品，我們常用的智能手機，平板電腦，用手指輕輕劃就能出現(xiàn)各種不同的界面，這就是電子設備屏幕上種透明導電薄膜的功勞，而濺射靶材就用于生產這種透明導電薄...

電極主要指原電池體系中的正負極與電解池體系中的陰陽極材料。按電流的流向區(qū)分：輸入電流的一端稱為陽極，輸出電流的一端稱為陰極。若按陽極上發(fā)生反應的類型區(qū)分：發(fā)生氧化反應...

鈦濺射靶材在隨著使用率的增加，表面可能會附著有殘留物，如粉塵、油污、氧化物等，繼而靶材表面有不同程度的結瘤，產品質量也會有所下降，導致生產成本增加。因此，需要濺射靶材進行充...

隨著市場高科技產品的不斷研發(fā)，靶材也在市面上頻頻出現(xiàn)，濺射靶材就是其中的種，它具備優(yōu)良的性能，非常受市場的歡迎，然而還有很多人不知道濺射靶材是干什么用的，今天巨偉鈦業(yè)就來為...

靶材在微電子領域、平面顯示器、儲存技術方面應用較為廣泛。目前在我國靶材還是個較新的行業(yè)，從興起至今，在技術和市場方面都取得了進步。為了讓大家能夠更好地了解靶材，靶材的...

什么是靶材綁定？在靶材鍍膜時，有時候會把靶材綁定在一個背靶上，用焊料將靶材與背靶焊接起來，這叫“靶材綁定”。一般的靶材會將其綁定在銅背靶上，旋轉靶材會綁定在不銹鋼襯管上，下...

引 言電鍍的目的是要獲得性能合乎需要的鍍層，電鍍工作者往往關心的是陰極，然而陽極狀態(tài)對鍍層質量同樣有較大影響。應用于電鍍工業(yè)中的陽極可分為兩大類，一類是可溶性陽極，在電...

產品名稱：鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶產品名稱鈦及鈦合金靶塊形狀圓靶塊，方靶塊，靶板，管靶材質國內牌號：TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC4ELI、TC6、TC9、TC10、TC11...